Produktname: Terbium-Sputtertarget

Produktname: Terbium-Target, Tb-Target, Terbium-Target-Rohling

Farbe silber

Schmelzpunkt: 1356 Grad

Siedepunkt: 3230 Grad

Dichte: 8,23 g/cm3

Reinheit: Tb/TREM größer oder gleich 99,99 % TREM größer oder gleich 99,9 %

Density: >99.5%

Durchschnittliche Korngröße:

Angezeigte Rauheit:

Formen: quadratisches Ziel, rundes Ziel, rotierendes Ziel (Größe kann je nach Kundenwunsch angepasst werden)

Technische Merkmale: Ultravakuumguss, Targetreinigung und Kunststoffverarbeitung

 

 

Terbium-Targets werden hauptsächlich verwendet, um Terbium in NdFeB-Materialien durch Magnetron-Sputter-Korngrenzendiffusionstechnologie zu infiltrieren, um den Effekt einer Erhöhung der Koerzitivfeldstärke zu erzielen. Es ist eine wichtige Sputterquelle für Hochleistungs-NdFeB-Materialien. Es wird häufig in Unternehmen zur Herstellung magnetischer NdFeB-Materialien eingesetzt.

 

Korngrenzendiffusion: Durch die Bildung eines dünnen Films aus schweren Seltenerdelementen (Dysprosium, Terbium) auf der Oberfläche des Magnetstahls und nach der Vakuumwärmebehandlung diffundieren die schweren Seltenerdelemente hauptsächlich entlang der Korngrenzenphase mit niedrigem Schmelzpunkt Ersetzen Sie dann die Hauptphasenkornkanten. Nd-Atome bilden eine Hülle mit hoher Koerzitivkraft. Diese einzigartige Mikrostruktur kann die Koerzitivkraft des Magneten aufgrund eines extrem geringen Abfalls der Restmagnetisierung erheblich erhöhen. Diese Technologie kann die Koerzitivfeldstärke durch den Verbrauch einer sehr geringen Menge an schweren Seltenen Erden erheblich erhöhen, ohne dass es zu einer signifikanten Verringerung der Remanenz kommt.

 

Der Prozess der Korngrenzendiffusion hat sich durch Magnetronsputtern, Verdampfen, Beschichten, Elektroabscheidung und andere Methoden entwickelt. Zu den schweren Seltenerdrohstoffen, die für die Korngrenzendiffusion verwendet werden, gehören normalerweise: Fluorid, Hydrid, Oxid und reine Metalle, Legierungen usw.

 

Beim Magnetronsputtern handelt es sich um eine Form der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD). Unter Korngrenzendiffusion beim Magnetronsputtern versteht man die Erzeugung einer Glimmentladung durch Spannung unter Vakuumbedingungen, Ionisierung von Argongas und Beschuss mit Argonionen. Dysprosium- und Terbium-Targets spucken Atome, Atomgruppen oder teilweise ionisierte Atomgruppen von Dysprosium und Terbium aus und werden durch Magnetfelder oder elektrische Felder beschleunigt, um schwere Dünnschichten aus Seltenerd-Dysprosium und Terbium auf der Oberfläche des NdFeB-Magnetsubstrats abzuscheiden. Auf diese Weise werden Dysprosium und Terbium an die Oberfläche von NdFeB gebunden. Da die Aktivität der schweren Seltenerdmetalle Dysprosium und Terbium im anschließenden Diffusionsprozess höher ist als die der schweren Seltenerdverbindungen, verbessert es die Konsistenz des Koerzitivkraftanstiegs von NdFeB und hat Vorteile bei der Verringerung der Auswirkungen auf die Oberflächenstruktur von NdFeB nach der Diffusion.

 

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